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刻蝕機終點(diǎn)檢測系統PX 1906
ELS-F125/F100/HS50電子束曝光系統PX 1836
SI 591RIE反應離子刻蝕PX 1966
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CRESTEC超高分辨率電子束光刻EBL(CABL-UH series)PX 1966
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IH-860DSICSiC用高溫離子注入設備 IH-860DSICPX 1966
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NE-550ICP 刻蝕機 :高密度等離子蝕刻裝置NE-550PX 1966
Trion等離子蝕刻ICPPX 0
SESAME 777CuIC酸開(kāi)封機自動(dòng)decap芯片去封裝失效分析PX 0
ELOPREP電解拋光蝕刻機/英國KEMET進(jìn)口全自動(dòng)電解拋光和蝕刻設備PX 0
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刻蝕機終點(diǎn)檢測系統
電子束蒸發(fā)系統,EB-4P電子shu沉積系統
電子束曝光系統
電子束直寫(xiě)系統 EBPG5150
多功能電子束曝光系統PIONEER Two
RAITH多功能電子束曝光系統eLINE Plus
Electron Beam Lithography System(EBL)
超高分辨率電子束光刻EBL(CABL-UH series)
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